風華高科極限高容:夯實技術能力,縱深推進高端應用市場
高端應用驅(qū)動,挑戰(zhàn)與機遇并存
AI浪潮奔涌,算力市場迎高速增長,基于人工智能的算力新基建需求,給MLCC帶來了新的挑戰(zhàn)與機遇。一是MLCC用量激增,AI服務器需多塊高功耗GPU,單模塊需數(shù)百顆MLCC,如英偉達8-GPUHopperHGX服務器MLCC用量增7-8倍,GB200NVL72機架方案用量增百倍以上;二是MLCC容量密度提升,服務器高算力依賴強大電源管理,高容值MLCC可提升能量存儲與電流穩(wěn)定性,滿足電源電路的需求,用量也隨之大增;三是MLCC可靠性要求提升,現(xiàn)代AI服務器架構通常在單個基板上集成多個GPU模塊,每個機架可能容納多個ASIC/GPU單元,這種配置隨著計算需求的增加產(chǎn)生大量熱量,芯片周圍MLCC的環(huán)境溫度也隨之升高,要求MLCC具備良好的高溫可靠性。總體而言,AI算力領域?qū)LCC的容量密度、耐高溫、高可靠性提出了更加嚴苛的要求。

極限高容系列產(chǎn)品應用電路圖
夯實技術能力,關鍵技術自主可控
為滿足AI算力領域?qū)LCC的新需求,風華高科積極布局關鍵材料與核心工藝技術,持續(xù)夯實極限高容MLCC技術能力。實現(xiàn)了極限高容MLCC用耐高溫添加劑、高覆蓋率鎳漿、高致密端漿等系列關鍵材料自產(chǎn)化,解決了極限高容MLCC用關鍵材料受到制約的難題;掌握了100nm以下鈦酸鋇粉體的均質(zhì)分散與0.5μm超薄膜片流延技術,實現(xiàn)了1000層以上超薄膜片的精密、穩(wěn)定疊層,建立了獨有的極限高容MLCC燒結工藝體系,有效提升了產(chǎn)品使用壽命,降低了系列高容MLCC產(chǎn)品失效率,實現(xiàn)了高可靠性極限高容的穩(wěn)定制備與生產(chǎn)。通過以上技術突破,實現(xiàn)了MLCC關鍵材料和核心工藝技術的自主可控,并通過承辦多項MLCC行業(yè)新標準的制定,有力推動了MLCC行業(yè)發(fā)展。

風華高科MLCC技術發(fā)明專利(部分)
打磨產(chǎn)品質(zhì)量,角逐高端應用市場
風華高科極限高容MLCC產(chǎn)品最高容量達到220μF,直流偏置電壓下容量衰減小,且在高溫負載下保持良好的絕緣穩(wěn)定性,完美契合了AI算力領域?qū)LCC高有效容量和高可靠性的嚴苛需求。
典型產(chǎn)品性能規(guī)格型號

典型產(chǎn)品特性曲線(0805X6S100uF2.5V)

產(chǎn)品特點
高容量密度:極限高容系列產(chǎn)品具備較高的容量密度,滿足AI服務器對能量存儲和電流穩(wěn)定性的需求。
良好的溫度特性:在-55~105℃寬溫度范圍內(nèi),產(chǎn)品容量變化率在-22%~+22%之間,滿足EIA標準X6S溫度特性。
高有效容量:在直流偏置電壓下,容量衰減小,老化特性達到行業(yè)先進水平,確保在實際使用條件下保持高的有效容量。
良好的高溫可靠性:在105℃、1.5倍額定電壓下,產(chǎn)品依然保持良好的絕緣穩(wěn)定性,滿足AI服務器等工控領域?qū)LCC高溫、高可靠性的嚴苛要求。
風華高科將進一步協(xié)同產(chǎn)業(yè)鏈上下游,繼續(xù)深耕極限高容MLCC原材料、工藝、制造、應用等技術,帶動MLCC上游產(chǎn)業(yè)發(fā)展;推出更高容量密度、更高溫度穩(wěn)定性、更高可靠性的MLCC產(chǎn)品,支撐AI算力等工控產(chǎn)業(yè)持續(xù)健康發(fā)展。